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納米光觸媒分散機(jī)，光觸媒研磨分散機(jī)，納米二氧化鈦分散機(jī)，光觸媒超細(xì)分散機(jī)，納米分散機(jī)，光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。 在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn)，價(jià)格也適中，具有較高的性價(jià)比，因而市場上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?/p>

辣椒醬分散機(jī)GMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

【管線式小型分散機(jī)的簡介】 專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到Z低。

硅藻土分散機(jī) ，的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。

導(dǎo)電漿料均質(zhì)分散機(jī)的設(shè)備特點(diǎn) GRS設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比： 高效,節(jié)能 傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過程,GRS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗極大降低； 高速,高品質(zhì)

納米管線式三級(jí)分散機(jī)，具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散分散機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

光敏涂料分散機(jī)，對于涂料行業(yè)，傳統(tǒng)的涂料一般采用高速分散機(jī)進(jìn)行分散，要求不高，主要起一個(gè)混合作用，但對于納米級(jí)涂料以及其他特殊涂料的分散就必須采用高品質(zhì)分散設(shè)備進(jìn)行分散，要保證物料的粒徑以及涂料均勻度，SGN高速剪切分散機(jī)可以滿足這種要求。

水煤管線式研磨分散機(jī)，水煤漿研磨分散機(jī)，水煤漿管線式高剪切研磨分散，SGN水煤漿研磨分散機(jī)結(jié)合了目前上*的膠體磨技術(shù)與管線式高速分散技術(shù)，設(shè)備轉(zhuǎn)速Z高可達(dá)14000rpm，是國產(chǎn)研磨機(jī)的4-5倍。